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記事検索結果
262件中、9ページ目 161〜180件を表示しています。 (検索にかかった時間：0.004秒)
良質のフォトマスク供給に日々取り組む石島幹男工場長に聞いた。... 「フォトマスクは小ロット多品種の典型。... 凸版グループ全体では62人おり、当工場にはフォトマスク修正技能士とマスクブランク製造技...
レーザーテックは1960年に創業し、76年には世界で初めてLSIフォトマスク欠陥検査装置を開発。... 今後はフォトマスク分野のノウハウを生かして、半導体ウエハーを検査する装置の開発を進め、収益性の向...
大日本印刷はフォトマスクを手がける台湾の子会社を、同業の米国フォトロニクス(コネティカット州)の台湾子会社と統合することで合意した。統合予定日は2014年3月31日付で、台湾で半導体用...
総合印刷大手2社の2013年4―9月期連結決算が7日出そろい、大日本印刷(DNP)、凸版印刷ともに半導体関連のフォトマスクの海外需要や、スマートフォン向け液晶カラーフィルターなどの需要...
加工技術の領域はスマートフォンなどの液晶ガラス基板、半導体製造装置で使われるフォトマスク、一眼レフカメラのローパスフィルターといった光学系部材と幅広い。
ウエハー装置を半導体フォトマスク関連装置に続く事業の柱に育て、さらなる成長を図る。 ... 半導体回路の原版となるフォトマスクの欠陥を検出する半導体マスク欠陥検査装置では高いシェアを...
基礎となるのが「フォトエレクトロフォーミング」技術だ。... 通常のフォトリソグラフィーは金属基板の上に感光性樹脂を塗り、フォトマスクを介してパターンを形成する。... 新たにマスクレス描画装置を導入...
「第10世代向けフォトマスクなど大型化への対応は業界でもっとも進んでいる。... 大型フォトマスクでは業界トップシェアだ。... 「社内にはフォトマスクのエキスパートが多くいる。
単波長の半導体レーザーを使う直接描画装置よりも幅広いレジストに対応できるため、フォトマスクによる露光方式でのレジストや、基板の絶縁保護膜となるソルダーレジストなどのパターン形成にも使用できる。... ...
両社とも半導体関連のフォトマスクやカラーフィルターなどエレクトロニクス部門の売り上げが低迷し、減収だった。... 14年3月期業績見通しは、フォトマスクや太陽電池、リチウムイオン電池関連の販売増を見込...
【横浜】レーザーテックは極紫外線(EUV)マスク裏面の定期管理や受け入れ検査などができる装置「BASICシリーズ=写真」を発売した。... 対応する基板サイズは6インチのEUV...
レーザーテック 20ナノメートル(ナノは10億分の1)世代以降の半導体デバイス用フォトマスクに対応するマスク欠陥検査装置「MATRICS(マトリクス)X810シ...
【横浜】レーザーテックは従来機より検査速度を大幅に向上させた高速フォトマスク欠陥検査装置「MATRICS X700 HiTシリーズ=写真」を発売した。... フォトマスク製造工...
また、半導体やディスプレーの市況が軟調に推移したため、フォトマスクやカラーフィルター、反射防止フィルムなども当初計画を下回った。 ... 事業別では半導体フォトマスクやプリント配線板...
東芝は技術研究組合BEANS研究所(東京都千代田区)、東京大学と共同で、次世代以降の半導体向けフォトマスク(半導体回路の原版)の描画・修正技術として、回路線幅50ナノメ...
