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記事検索結果
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直江津工場に加え、台湾でも極端紫外線(EUV)レジストの生産を始める。EUVレジストは人工知能(AI)や第5世代通信(5G)の普及などに伴い、需要が増え...
「フォトレジスト用ポリマーの生産能力は順次増強を実施しており、次は極端紫外線(EUV)を含む最先端技術向けの同ポリマーを増強する方向で検討している。
AGCは27日、半導体の生産工程で用いる消耗部材の極端紫外線(EUV)露光用フォトマスクブランクス(写真)の生産能力を現状の2倍程度に引き上げると発表した。... EU...
2019年には最先端の半導体加工技術である極端紫外線(EUV)露光用マスクパターンの欠陥検査装置(写真)を開発。
住友化学の岩田圭一社長は「極端紫外線(EUV)露光向けフォトレジストでもトップを狙いたい」と話す。... EUVは最先端の露光技術で、第5世代通信(5G)や人工知能&#...
大日本印刷は10日、5ナノメートル(ナノは10億分の1)世代の半導体製造に対応した極端紫外線(EUV)リソグラフィ技術向けのフォトマスクの製造技術を開発したと発表した。...
半導体製造装置分野では、紫外線で効率的に微細な加工をする極端紫外線(EUV)露光装置が話題を集める。
住友化学は22日、最先端の半導体製造プロセスである極端紫外線(EUV)露光向けフォトレジストの開発・評価体制を強化すると発表した。... 人工知能(AI)や第5世代通信...
レーザーテックは最先端の半導体加工技術である極端紫外線(EUV)露光用マスクパターンの欠陥を高感度に検出するEUV欠陥検査装置ACTIS「A150」を製品化した。 ....
【設備補完強み】 極端紫外線(EUV)露光技術で微細な半導体を生産するメーカーの採用を見込む。 EUV露光技術は7ナノおよび5ナノメートル世代の半導...
【レーザーテック/アクティニックEUVパターンマスク欠陥検査装置 ACTIS「A150」】 最先端の半導体加工技術である極端紫外線(EUV)露光用マ...
極端紫外線(EUV)露光技術で微細な半導体を生産するメーカーの採用を見込む。 ... EUV露光技術は7ナノおよび5ナノメートル世代の半導体デバイスの量産で活用されて...
フッ化アルゴン(ArF)用や極端紫外線(EUV)用のレジスト材料を、半導体レジストメーカー向けに供給する。... EUV用材料の生産に対応するため、金属不純物の混入を極...
EUV(極端紫外線)レジストの韓国向け輸出管理強化の影響は「半導体関連の売り上げに占める比率は小さく、影響は小さい」(宮崎秀樹取締役常務執行役員)とした。 &#...
