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レーザーテック、高輝度EUVで欠陥検出 マスク検査装置を受注 （2023/12/12 電機・電子部品・情報・通信１）
【横浜】レーザーテックは自社開発の高輝度極端紫外線(EUV)プラズマ光源を標準搭載したEUV露光用マスクパターン欠陥検査装置「ACTIS A300=...
日本、EUV関連で存在感 先端半導体に不可欠 （2021/1/7 総合３）
特に需要が高まっているのが、光源にEUVを使ったEUV露光用フォトマスク(半導体回路の原版)の欠陥検査装置で、同社が100%のシェアを持つ。従来EUV露光用マスクの検査では、主...
EUVでパターン欠陥検出 レーザーテック、マスク検査装置を製品化 （2019/10/16 電機・電子部品・情報・通信２）
【横浜】レーザーテックは、半導体加工技術の極端紫外線(EUV)露光用マスクパターンの欠陥を高い感度で検出するEUV欠陥検査装置「ACTIS A150=写真」を製品化した...
