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アルバック、パワー半導体向けイオン注入装置を拡充
(2017/7/7 05:00)
アルバックは６日、パワー半導体向けイオン注入装置のラインアップを拡充すると発表した。低エネルギーで高効率にイオンを注入でき、処理時間を従来比６０分の１にした「ＳＯＰＨＩ（ソフィ）―３０＝写真」と、２４００キロ電子ボルトの高エネルギーに対応する「ＳＯＰＨＩ―４００」の販売を始めた。...
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(2017/7/7 05:00)
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