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記事検索結果
2,267件中、103ページ目 2,041〜2,060件を表示しています。 (検索にかかった時間：0.017秒)
現在は過酸化水素の濃度は管理されていないが、プロセスの微細化に伴い、ウエハーの酸化対策として必要になると判断し、ナノセイバーを開発した。
同32ナノメートルの次世代プロセスで必要になる2回露光(ダブルパターニング)用の機種で、1時間当たりのウエハー処理枚数を示すスループットを現状の2倍にするほか、重ね合わせ精度を従来の6...
日立ハイテクノロジーズはウエハー上の薄膜を形状加工するエッチング装置や、半導体の検査・計測工程で用いる測長走査型電子顕微鏡(SEM)などのメーカー。
生産能力は150ミリメートル(6インチ)ウエハー換算で月産13万6000枚。... ウエハー処理枚数(6インチ換算)では松本を同13万6000枚から同18万枚に増やすと...
65ナノメートル品は70ナノメートルプロセス品と比べ、1枚のウエハー(直径300ミリメートル)から取れるチップ数が約6割増え、製造コストを低減できる。
拡張後は、450ミリメートルウエハーの対応設備を導入しウエハー搬送(ハンドリング)などの研究開発を行う。 ... 米国テキサス州オースティンで、450ミリメートルウエハーの標準...
オランダのASMLは半導体回路をウエハーに焼き付ける半導体露光装置の大手専業メーカー。... ウエハー1枚当たりのコストは、当社のArF液浸露光装置の方が良い値になっている。... 韓国や米国のメーカ...
世界的な景気減速で薄型テレビなど家電向け半導体の需要が減少し、ウエハーの出荷も「1月から伸びていない」(中村健取締役)。
SUMCOは21日、2010年1月期の300ミリメートルウエハーの増産投資を先送りすることを明らかにした。... 「300ミリメートルウエハーの生産能力は09年1月期中に月130万枚弱まで増える予定」...
ウエハーの加工プログラムをほかのダイシングソーにコピーしたり、装置の稼働状況を記録したりする際にUSBメモリーを使用する。
「ウエハー式」と呼ばれるこの設計を取り入れ、材料使用量を大幅に減らした。 ... そんな時に目を付けたのが、提携先の米メーカーが採用していたウエハー式バルブだ。
「1時間当たりのウエハー処理枚数を表すスループット100枚程度も可能になる」(IMEC)とし、半導体メーカーが採算を考慮できる水準まで装置生産性が高まる。 ... 半導体回路を...
ウエハー洗浄液用の排水装置に利用する、チオ硫酸ナトリウムやカタラーゼといった処理剤と併用することで、効率の良い廃水処理を実現。
露光装置メーカーは40ナノメートル台の先端半導体製造では、露光装置の投影レンズとウエハー間に純水を満たしてNAを高める「液浸」技術を採用。
新装置はウエハーにガラス製サポート板を張り付け、強度を持たせ、貫通電極形成などの加工を可能にする。貫通電極形成後にサポート板にある複数の穴から溶剤を染みこませ、仮止め剤を溶解して不要な力を与えずウエハ...
現地では150ミリメートルの小径ウエハーから300ミリメートルの大口径ウエハーラインまでさまざまあり、デザインルールも一世代前のものが多い。
回路微細化でチップ面積が縮小することから、端面ぎりぎりまでウエハーを活用したいという市場ニーズに応えた技術で、ウエハーの有効面積を2%弱広げられる。 ... ウエハー表面のベベル部に薬...
