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東京精密のレーザーパターニング装置と、パナソニックのプラズマダイシング装置を組み合わせて、最適化した。
新工法は「レーザーグルービング(溝加工)+プラズマダイシング工法」で、ウエハーにプラズマを照射し半導体チップに切断する。
同装置で加工した後、パナソニックのプラズマダイシング装置でウエハーを切断すれば高品質のチップを歩留まり良く生産できる。
パナソニックは12日、シリコンウエハーから半導体チップを切り分ける独自装置「プラズマダイシング」の普及に向けて「プラズマダイシング実証センター」を大阪府門真市に開設した。