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共同研究するのは「ナノインプリント」と呼ばれる次世代半導体露光技術。... その先は「現行技術では難しい」(東芝幹部)とみて15ナノメートル水準を狙えるナノインプリントの実用化を目指す...

(後藤信之)(総合1参照) 【ナノインプリント実用化へ】東芝はナノインプリント技術を用いた微細化にも取り組む(NAND型フラッシュメモリーを生...

キヤノン、米MII買収で合意（2014/2/17）

キヤノンはMIIの技術を使い19ナノメートルを上回って回路を微細化できる先端装置を2015年に商品化。... MIIは、型をレジストを塗布したウエハー上に押しつけて、凹凸を付ける形で回路を描くナノイン...

JSR、SCIVAXに出資−3次元細胞培養で協力（2013/8/7）

両社の技術を生かし、3次元細胞培養をこれまでのがんの研究から、抗がん剤効果の予測やiPS細胞(万能細胞)などの再生医療分野にも広げる考え。 SCIVAXライフサイエン...

アイトリックス、グラフェンで合弁（2013/4/11）

印刷技術を用いて電子回路やセンサー、素子などを製造するプリンテッドエレクトロニクス分野での用途を想定。... アイトリックスはナノインプリント技術などの開発製造を手がけている。

NTT-AT、シンガポールのプロに参画（2012/8/20）

NTTアドバンステクノロジ(NTT―AT、東京都新宿区、03・5325・0711)は、シンガポール科学技術研究庁材料工業研究所が主催する「ナノインプリント産業コンソーシアム(I...

アイトリックス(東京都渋谷区、長谷川正治社長、03・3791・3711)は、グラフェン研究で著名な韓国ソウル大学の洪秉煕(ホン・ビォンヒ)准教授が設立したグラフェンスク...

研究テーマは「射出成形による微細形状転写技術の確立」「機械加工による微細構造光学素子用金型の開発」「MEMS技術を用いた極微細金型製作技術の開発」「鋳ぐるみ温調金型を活用した難加工材料の精密成形技術の...

関西大、紫外光で表面形状自在に変わるフィルムを開発（2011/5/23）

現像が必要なフォトリソグラフィーや微小の鋳型を使うナノインプリント技術とは異なる簡単な微細加工法として、光記録材料やマイクロデバイスなどの分野で応用が期待できそうだ。

フィルム表面の加工は旭化成イーマテリアルズが独自に開発したナノインプリント技術を利用する。

東北大学大学院工学研究科の金森義明准教授と羽根一博教授の研究グループは、光ファイバーの先端に形成する反射防止膜を安価に作製する技術を開発した。ナノインプリント技術を使い、光を伝搬する部分に微小なくぼみ...

連続露光技術により、毎分250平方ミリメートルの露光スピードを実現した。導光板などナノインプリント技術で用いる型をはじめ、回路や電極、流路などの微細パターンを短納期で製作できる。 ... 新た...

ニッタ、半導体新製法に適応の離型材向けポリマー開発（2009/9/4）

ニッタは半導体製品の新製法「ナノインプリント技術」に応用できる側鎖結晶性ポリマー「インテリマー」の新型タイプを開発した。... ナノインプリントは露光装置を使わず、半導体に微細加工を施すため金型に作成...

【千葉】東洋合成工業は100ナノメートル(ナノは10億分の1)以下の微細加工が可能なナノインプリント技術を簡単に試せる実験キットを月内に発売する。... 2011年にもナノインプリント...

三明、半導体製造装置向けテスト加工・評価環境を整備（2008/1/31）

新たにクリーンルームを設け、テスト加工用として光ナノインプリント技術による回路パターン転写装置や、スプレータイプのフォトレジスト塗布装置、露光装置の3機種を設置。