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記事検索結果
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これにより、書き換え用金属酸化膜半導体(MOS)トランジスタの面積を従来に比べ小さくでき、メモリーとして同約1・5倍の高密度化が可能になるという。
今後は電気的な制御でトランジスタ極性を変えられる相補型金属酸化膜半導体(CMOS)や、大面積グラフェンを使った素子の作製を目指す。
【さいたま】ビットラン(埼玉県行田市、新井一夫社長、048・554・7471)は、次世代相補型金属酸化膜半導体(sCMOS)カメラ「CS―53=写真」を5日に発...
自動車などで普及するシリコン製パワー半導体やスマートフォン(多機能携帯電話)などに搭載が広がる裏面照射型相補型金属酸化膜半導体(CMOS)イメージセンサー製造工程に提案...
新日本無線は、消費電流が0・29マイクロアンぺア(マイクロは100万分の1)の相補型金属酸化膜半導体(CMOS)オペアンプ「NJU77000シリーズ=写真」を発...
日本の半導体産業の停滞が指摘されるが、相補型金属酸化膜半導体(CMOS)イメージセンサーはむしろシェアを高め2005年時点では一ケタ台の売上高シェアだったが、11年は3割超を握り世界首...
野洲事業所(滋賀県野洲市)の量産8インチ相補型金属酸化膜半導体(CMOS)ラインと同MEMSラインを活用。
相補性金属酸化膜半導体(CMOS)カメラを内蔵したロボットをケーブルに取り付けて無線操作により動かし、モニター画面で損傷の有無を確認できる。
パワーアンプを化合物半導体から相補型金属酸化膜半導体(CMOS)に置き換え、CMOSチップ上に一体集積するとコストダウンや小型化が進むが、低電圧で動作するCMOS回路ではパワーアンプの...
物質・材料研究開発機構国際ナノアーキテクトニクス研究拠点の塚越一仁主任研究員、生田目俊秀統括マネージャーらは、理化学研究所ナノサイエンス研究施設の柳沢佳一テクニカルスタッフと共同で、次世代の金属酸化膜...
パナソニックが開発した半導体リレー「フォトモスリレー・パワーDC高容量タイプ」は、スイッチング素子に金属酸化膜半導体(MOS)電界効果トランジスタ(FET)を使用した。
【材料分野】本蔵義信愛知鉄鋼技監「Dy(ジスプロシウム)フリーNd・Fe・B(ネオジウム・鉄・ホウ素)系異方性ボンド磁石の研究開発とモータへの応用」【半導体および半導体...
大面積ウエハーでの応用が可能で、超低電圧で動く相補型金属酸化膜半導体(CMOS)のチャネル材料への活用が期待できる。... 表面を酸化して絶縁化したシリコン基板上にグラフェンを張り付け...
パナソニックは20日、「金属酸化膜半導体(MOS)」と呼ばれる構造を採用したスマートフォン(多機能携帯電話)向けの撮像素子(イメージセンサー)事業に参入...
