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【京都】ロームは14日、大幅に電力損失を抑えた太陽光発電用パワーコンディショナー向け金属酸化膜半導体電界効果トランジスタ(MOSFET)「R5050DNZ0C9」のサンプル出荷を始めた...

東芝は2011年度に金属酸化膜半導体電界効果トランジスタ(MOSFET)の低耐圧品と高耐圧品で新構造の製品を投入する。

高画素の大判相補型金属酸化膜半導体(CMOS)センサーなどの基幹部品を新たに開発したほか、デザインも改良し、競争の激化する一眼市場で差別化した新製品群をそろえた。

用紙には、薄い灰色のドットパターンが約0・3ミリメートル間隔で印字してあり、ペン先に内蔵した相補型金属酸化膜半導体(CMOS)カメラがドットを撮影、その際に縦・横で合計36個のドットか...

その煩わしさを解消したのは35ミリメートルフルサイズ(約36ミリ×24ミリメートル)の大判相補型金属酸化膜半導体(CMOS)センサーで、大きさは一般的なシネマ...

1600万画素の相補型金属酸化膜半導体(CMOS)センサーを搭載。

センサー素子を相補型金属酸化膜半導体(CMOS)回路基板上に組み込み、同社従来品比56%小型化した。

オムロンと米アイスモス・テクノロジー(アリゾナ州)4日、微小電気機械システム(MEMS)技術を応用した高耐圧の金属酸化膜半導体電界効果トランジスタ(MOSFET...

両社は35ボルト耐圧の相補型金属酸化膜半導体(CMOS)プロセス製品でも協業しており、新日本無線は10年8月から量産出荷。

拡張性が高く、多数のセンサーによる同時並列処理で作業を高速化できる上、一般的な相補型金属酸化膜半導体(CMOS)プロセスを利用し、低コスト化が図れるという。

2005年当時、主力は携帯電話カメラ向けの相補型金属酸化膜半導体(CMOS)の受託。

新しいデジタル一眼カメラは小さい裏面照射型の相補型金属酸化膜半導体(CMOS)センサーを搭載するなどで、本体構造を小型化した。

半導体の韓国内中核生産拠点、器興(京畿道龍仁市)では現在、相補型金属酸化膜半導体(CMOS)イメージセンサーの新工場を建設中で、年末の稼働に向けて工事が急ピッチで進む。

16万画素の相補型金属酸化膜半導体(CMOS)センサーを搭載した。

工程全体でバラつきを補正する回路線幅40ナノメートル(ナノは10億分の1)の相補型金属酸化膜半導体(CMOS)ロジックデバイス向けの製造技術で、既に量産ラインに導入した...

標準のシリコン相補型金属酸化膜半導体(CMOS)回路上に、磁石の「スピン」を利用したスピントロニクス素子を積んだ積層構造を作り、記憶と演算の機能を回路に一体化した。

従来のシリコンの金属酸化膜半導体(MOS)電界効果トランジスタ(FET)に比べ、トランジスタの性能を決める電子移動度を向上。

新製品はAPS―Cサイズ(23・5ミリ×15・6ミリメートル)の相補型金属酸化膜半導体(CMOS)センサーを採用し、有効画素数が同15・7%増の162...

東芝は相補型金属酸化膜半導体(CMOS)イメージセンサーの画質劣化の主因となる「ランダムテレグラフノイズ」と呼ばれる雑音を減らすためのシミュレーション技術を世界で初めて開発した。......

送受信部と信号源を一つの相補型金属酸化膜半導体(CMOS)に集積。

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