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記事検索結果
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【横浜】レーザーテックは極端紫外線(EUV)を使った微細な半導体パターン転写に対応した量産用EUVマスクブランクス(原版)の欠陥検査・解析装置「ABICS E1...
半導体露光用エキシマレーザー大手のギガフォトン(栃木県小山市、0285・28・8410)はグリーンイノベーションの同社プログラム「エコフォトン」の新ロードマップを発表した。
半導体露光用エキシマレーザー大手のギガフォトン(栃木県小山市、都丸仁社長、0285・28・8410)は開発中の極端紫外(EUV)スキャナー用レーザー生成プラズマ(...
ギガフォトン(栃木県小山市、0285・28・8410)は半導体露光用エキシマレーザーの新ブランド「GIGANEX(ギガネックス)」を2016年度に展開すると発表した。
ギガフォトン(栃木県小山市、都丸仁社長、0285・28・8410)は、半導体露光用エキシマレーザー向けのネオンガスリサイクルシステム「hTGM」を開発し、フィールド評価を開始した。&#...
【神戸】兵庫県立大学の原田哲男助教らの研究グループは、次世代半導体での量産適用が有望視される極端紫外線(EUV)リソグラフィー(露光)のフォトマスク評価に使う顕微鏡を開...
半導体露光用エキシマレーザー大手のギガフォトン(栃木県小山市、都丸仁社長、0285・28・8410)は、開発中の極端紫外(EUV)スキャナー用レーザー生成プラズマ...
半導体露光用エキシマレーザー大手のギガフォトン(栃木県小山市、都丸仁社長、0285・28・8410)は、ArF(フッ化アルゴン)エキシマレーザーの最新モデル「GT64A...
半導体露光用エキシマレーザー大手のギガフォトン(栃木県小山市)は、同社のArF液浸レーザー「GTシリーズ」向けのガス消費量削減技術「eTGM」を期限付きで無償提供する。 ...
ユメックス(兵庫県姫路市、千木慶隆社長、079・335・5111)は、放射性物質であるトリウムの使用量を約100分の1に低減した露光用ショートアークランプの陰極(写真)...
ユメックスは1992年の創業で、プリント基板やプラズマ・ディスプレー・パネル(PDP)露光用の超高圧水銀ランプをはじめ、各種産業用のランプを手がけている。... 05年には兵庫県立大学...
北海道大学電子科学研究所の上野貢生准教授、三澤弘明教授らは、近赤外光を露光用の光源に使い、従来よりも10分の1程度細かい数ナノメートル(ナノは10億分の1)の分解能で加工できる光リソグ...
これまでは紫外線(UV)露光用材料が主流だったのに対し、HPDLCは可視光領域の光で露光・記録できるため、生産コストの削減にもつながるという。
コマツは25日、ウシオ電機と折半出資していた半導体露光用光源メーカーのギガフォトン(栃木県小山市)について、5月中旬をめどに完全子会社化すると発表した。... 次世代露光装置向けの極端...
レーザー加工の初期過程の詳細な観察や半導体製造工程での極端紫外光露光用マスクの欠陥検査などの重要な手法として期待される。 ... これにより世界初の「表面観察用軟X線レーザー干渉計」を開発し、...
また先端露光技術に対応するフォトレジストの販売も増やす。... フォトレジストでは、最先端技術である液浸露光用フッ化アルゴンレジストの売り上げ拡大を見込む。... フォトレジストなどの半導体関連プロセ...
自己架橋型フォトレジストは、加熱処理により材料が硬化し、2回目の露光用レジストが不要になるため、1回目のレジストを保護する工程がいらない。新製品はトップコートがなくても、液浸露光の課題である水滴による...
