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【京都】ロームは液晶テレビ用バックライトインバーターなど向けに、500―600ボルトクラスの高耐圧パワーMOSFET(金属酸化膜電界効果トランジスタ)「Fシリーズ」を開発した。

画像素子に相補型金属酸化膜半導体(CMOS)を採用し、画像はAIV方式で保存する。

8万画素の相補型金属酸化膜半導体(CMOS)イメージセンサー、2灯の白色発光ダイオード(LED)を搭載。

相補型金属酸化膜半導体(CMOS)センサーは新規に開発し、独自の裏面照射構造を採用して感度を従来の約2倍に高めた。

305万画素の金属酸化膜半導体(MOS)センサーを3個搭載する「3MOSセンサー」を採用。

GaNでは難しいノーマリオフ型FETの試作にこぎつけ、目標としていた金属酸化膜半導体(MOS)―FETの50分の1のオン抵抗を達成した。SBDもアノード電極に掘り込み構造を採用し、バリ...

【キヤノン】普及価格帯で35ミリメートルフルサイズの相補型金属酸化膜半導体(CMOS)センサーとフルハイビジョン(フルHD)動画撮影機能を搭載し、デジタル一眼レフカメラ...

相補型金属酸化膜半導体(CMOS)イメージセンサー前工程の熊本テクノロジーセンター(熊本県菊陽町)は、前回の年末年始に9日間停止しており、今回はライン稼働日数が増える。

熊本では相補型金属酸化膜半導体(CMOS)イメージセンサーの増強を進め、第5期増強までに600億円近くを投入、同2万枚程度に引き上げた。

n型金属酸化膜半導体(MOS)トランジスタの絶縁膜に、新たに希土類元素のイットリウムを導入する。... セリートは次世代の相補型金属酸化膜半導体(CMOS)に、金属電極...

富士通研究所(川崎市中原区、村野和雄社長、044・754・2613)はゲート電極や絶縁膜は従来材料のままで、32ナノメートル(ナノは10億分の1)世代以降の微細LSIに...

携帯電話向け相補型金属酸化膜半導体(CMOS)イメージセンサーの増産計画の一部も外部委託に切り替える。

シリコン酸化膜に換算した電気的に等価な膜厚である等価換算膜厚(EOT)で、世界初の0・37ナノメートル(ナノは10億分の1)のゲート絶縁膜を持つMOS型電界効果トランジ...

ニコンは1日、35ミリメートルフィルムサイズ相当の相補型金属酸化膜半導体(CMOS)センサーを搭載し、有効画素数2450万画素を実現したデジタル一眼レフカメラのプロ用最高級機「ニコンD...

磁気センサーと相補型金属酸化膜半導体(CMOS)ICを一体化したセンサーICで、業界標準サイズより体積を約80%小型化した。

半導体ウエハーに加えて、相補型金属酸化膜半導体(CMOS)イメージセンサーや発光ダイオード(LED)、微小電気機械システム(MEMS)などの検査向けに需...

従来の相補型金属酸化膜半導体(CMOS)カメラでは暗い場所や被写体の速い動きを撮影するのが難しかった。

台湾では、カメラ付き携帯電話端末向け相補型金属酸化膜半導体(CMOS)イメージセンサーの検査用で需要が増加しており、今後は高輝度発光ダイオード(LED)や微小電気機械シ...

ソニーは13日、携帯電話用に有効画素数1225万の相補型金属酸化膜半導体(CMOS)イメージセンサー「Exmor」を商品化したと発表した。

今後、既存の相補型金属酸化膜半導体(CMOS)プロセスに混載した評価回路を作製し、性能などを検証していく。 スピン注入方式は、絶縁膜を磁性体で挟んだ磁気トンネル接合素子(...

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