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64件中、4ページ目 61〜64件を表示しています。 (検索にかかった時間：0.037秒)
ブイ・テクノロジー、液晶パネル用ガラス基板向け露光装置を発売 （2008/11/18）
【厚木】ブイ・テクノロジーは液晶パネル用ガラス基板向け露光装置「イージス」で、配向膜露光に特化した機種を発売する。小さな露光用マスクを並べ、ガラス基板上を移動しながら露光する方式。... 同社では、今...
経営ひと言/兵庫県立大高度産業科技研・渡邊健夫准教授「早期の実用化へ」 （2008/8/1）
次世代半導体の加工技術とされる極端紫外線(EUV)露光用のレジストの開発を進める。「2011年にも登場する回路線幅32ナノメートル世代にはEUV露光が欠かせない」とにらむ。
販路開拓コーディネート事業(4)ウエハー周辺露光用光源 （2008/4/23）
今回の支援事例の中小企業は、大手光学ガラスメーカーをスピンアウトした光学の技術屋集団、ARKTECHで商品は紫外線(UV)―発光ダイオード(LED)使用の半導体ウエハー...
JSR、2回露光して回路描く半導体製造工程用の新材料開発 （2008/3/12）
JSRは11日、2回露光して微細な回路を描く半導体製造工程用の新材料を開発したと発表した。線幅32ナノメートルに対応した材料で、1回目の露光で形成された回路を固めて、2回目の露光の溶剤に溶けないように...
