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記事検索結果
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マイクロ波プラズマ化学気相成長(CVD)技術で単結晶ダイヤを製造している。... それぞれを元に、人工ダイヤメーカーが結晶の層を厚く成長させれば、人工宝石用として大型の2―5カラットを...
実験炉は原料となる液体を加熱してガスにし、そのガスから炭素だけを取り出して固体にする化学気相成長(CVD)法で、CNTを合成する。
17年9月には、政府の16年度補正予算(教育研究基盤装置・設備)約7000万円を活用し、パワー半導体の試作装置としてプラズマCVD(化学気相成長)装置3台と原料ガス供給...
半導体など関連装置事業はセラミックス製品、石英製品、CVD(化学気相成長)―SiC製品などのマテリアル製品を取り扱っており、前工程・後工程のウエハープロセスに使用される。
「化学気相成長(CVD)装置やエッチング装置が厳しい環境下で使われるようになり、シール交換までのメンテナンスサイクルをいかに延ばせるかがカギを握る。
MVXは切削速度の高い外刃にCVD(化学気相成長)コーテッド超硬材種、切削速度の低い内刃にPVD(物理気相成長)コーテッド超硬材種を配置し、摩耗バランスを最適化している...
一般的にダイヤ被膜の合成は、化学気相成長(CVD)などを用いて真空引き、昇温、フィラメント炭化、成長、冷却とプロセスが多く丸一日かかる。
【経済産業大臣賞】 「PFC等の新型大気圧プラズマ除害装置」カンケンテクノ 電子デバイス製造の化学気相成長装置(CVD装置)は、...
両材種とも強靱(きょうじん)性超硬母材に独自の化学気相成長(CVD)コーティングを適用し、耐チッピング(刃先の細かい破損)性や耐溶着性を高めた。 ...
また月島機械との共同開発により、プラズマ化学気相成長(CVD)法で実車サイズの大型・曲面形状の樹脂窓にも均一にコーティングできる設備も完成した。 ...
同社の中核技術は京都大学の藤田静雄教授らが開発した「ミストCVD(化学気相成長)」にある。
グラフェン薄膜を作製するには、主に化学気相成長(CVD)を活用するが、1層を作製するのに数時間かかる。これに対し、開発手法は、1層当たり約1分で1層ずつ成長させられる。 ...
物理気相成長(PVD)や化学気相成長(CVD)、エッチングなどで使う半導体製造装置を主対象に、メーカーから装置の部品を預かり精密に洗浄し再生する。
外刃に化学気相成長(CVD)、内刃に物理気相成長(PVD)のコーティングチップを配置し、高速・高能率の加工を実現した。
半導体の基板上にシリコンなどの薄膜を作る化学気相成長(CVD)工程やエッチング工程などで利用される。
金属ナノ粒子の製造は、プラズマ方式による物理的蒸発法や化学気相成長(CVD)方式を用いた塩化物の水素還元法が普及している。
主流の化学気相成長(CVD)やプラズマによる手法より工程が簡単なほか、消費電力も抑えられる。
プラズマ化学気相成長(CVD)法により、PC樹脂上のハードコート層の上に同層の劣化を抑えるガスバリア性の高いシリコーン層を形成する仕組み。
