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ASML、7―9月の露光装置受注が48.6%減の18台（2008/10/17）

【フェルトホーフェン=安久井建市】ASMLは、08年7―9月期の露光装置(新品のみ)の受注台数が前年同期比48・6%減の18台(前年同期35台)になった...

半導体露光装置メーカー、先端露光装置を増産（2008/10/17）

オランダのASMLは本社内に建設していた新工場棟を稼働したほか、ニコンは09年末に二つの新工場棟を稼働する。... ASMLの新工場棟建設は第3期工事まで計画があり、このうち第1期工事が完了し稼働を開...

ニュース拡大鏡/ArF液浸露光装置、販売好調（2008/8/22）

半導体製造装置の受注・販売台数が前年に比べて4割前後も落ち込む中で、オランダのASML、ニコン、キヤノンの露光装置3社は08年にArF液浸の販売台数を増やす見通し。... (安久井建市)...

エルピーダ、蘭ASMLとニコンにArF液浸露光装置を発注（2008/8/15）

エルピーダでは8月末までに、ASMLとニコンのArF液浸露光装置の技術評価を終える予定。... エルピーダは当初、ASMLとキヤノンからArF液浸の提供を受けて技術評価を実施していた。だが、ニコンの装...

蘭ASML、回路線幅30ナノ台向けArF液浸露光装置を開発（2008/7/22）

オランダのASMLはフッ化アルゴン(ArF)エキシマレーザーを光源にした半導体用の液浸露光装置「TWINSCAN XT1950i」を開発した。

IMECはオランダのASMLが開発した研究開発機「アルファ・デモ・ツール」を導入。

装置が支える半導体・液晶(5)露光2回「凍結法」で解決（2008/6/16）

オランダのASML、ニコン、キヤノンの露光装置メーカー3社は32ナノメートルプロセスに向けた研究開発を、露光を2回実施する「ダブルパターニング」、純水より屈折率の高い溶媒を介して解像度を高める「高屈折...

装置が支える半導体・液晶(4)32ナノ、解像度向上が課題（2008/6/2）

オランダのASML、ニコン、キヤノンの露光装置メーカー3社は、32ナノメートル以降の先端プロセスでは、研究開発の方向性として三つの露光方法に的を絞っている。

NECエレ、山形の300mmウエハーラインを増強（2008/5/28）

現在稼働しているオランダのASML製のArF液浸露光装置「1700i」1台に加えて、相模原事業場(神奈川県相模原市)からASML製の液浸露光装置1台を移設、直径300ミリメートルウエハ...

半導体露光3社、レンズ材料定まらず「高屈折率液浸」断念（2008/5/22）

半導体露光装置を事業化するのはキヤノンとニコン、オランダのASMLの3社。... ASMLは、3月末に研究開発の継続可否を決めると公表していたのを「(レンズ材料など)条件が整ってから決...

装置が支える半導体・液晶(3)先端向けArF液浸伸びる（2008/5/19）

3社の07年の販売台数はASMLが235台、キヤノンが179台、ニコンが150台(07年度146台)だった。... ASMLは08年第1四半期(1―3月)の受注実績が1...

ニコン、10−12月に32ナノ対応露光装置を出荷（2008/2/21）

ダブルパターニングに対応した液浸露光装置はニコンのほか、オランダのASMLも08年末ごろに市場投入する計画。