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記事検索結果
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半導体の回路線幅が狭くなるため、フォトレジストや洗浄剤に使う溶剤のさらなる高純度化に向けて生産、物流、検査設備の改良を進めていく」 ―大型投資の可否を判断する3年間ともなりそうです。...
この半導体は回路線幅7ナノ(ナノは10億分の1)メートル技術を利用して台湾積体電路製造(TSMC)が製造する。
回路線幅5ナノ―7ナノメートル(ナノは10億分の1)級の先端半導体チップの需要増に対応する。... フォトマスクブランクスは回路を半導体ウエハーに転写する際の原版であるフォトマスクの材...
例えばプリント基板向け金メッキでは、徐々に回路線幅が細くなる微細化に対応しながら、「国内での基板向けメッキは難しいものしか残っていない」(下島)という需要を拾い集めて同メッキ設備の増設...
TRIPLE―1(トリプルワン、福岡市博多区、山口拓也最高経営責任者〈CEO〉、0570・031・119)は、回路線幅が7ナノメートル(ナノは10億分の1)の半導体チッ...
フォトマスクは、回路をシリコンウエハーに転写する際の原版。ウエハーに回路パターンを焼き付ける半導体露光装置で使う。... 凸版印刷は4月に回路線幅55ナノメートル(ナノは10億分の1)...
世界最大の半導体メーカー、韓国のサムスン電子は、回路線幅が7ナノ(ナノは10億分の1)メートルのプロセッサー生産を近く開始すると明らかにした。
世界最大の半導体メーカー、韓国のサムスン電子は、回路線幅が7ナノメートル(ナノは10億分の1)のプロセッサー生産を近く開始すると明らかにした。
同関係者によると、プロセッサーは「A12」チップと呼ばれる見通しで、アイフォーン「8」や「X」に使用されている回路線幅10ナノメートルの半導体に比べてより小型で高速、効率的な7ナノメートルの設計となる...
そのほか回路線幅は同装置ほど細くないものの、フォトマスクと半導体ウエハーを1対1で一度に焼き付ける「一括投影露光装置」などがある。 ステッパーは回路線幅を細くできるものの、価格が数十...
スマートフォン向けなどの回路基板や自動車の内・外装樹脂部品向けに、旺盛なメッキ処理需要に対応する。 ... 「回路線幅0・02ミリメートルまで高精度にメッキ処理できる」(下島...
回路線幅45ナノメートル(ナノは10億分の1)未満の半導体製造に使うフォトマスクが市場拡大をけん引しているという。
TRIPLE―1(東京都中央区、山口拓也最高経営責任者〈CEO〉、03・6313・8355)は、回路線幅が従来に比べて2分の1以下となる7ナノメートル(ナノは10億分の1...
サーバー向けの需要は安定して強く、IHSの南川明主席アナリストは「値下げ幅は10%程度ではないか」と見る。 サムスンは回路線幅18ナノメートル(ナノは10億分の1...
回路線幅55ナノメートル(ナノは10億分の1)と、同65ナノメートルの2種類のフォトマスクを4月から生産する。... フォトマスクは、半導体チップの回路をシリコンウエハーに転写する際に...
「半導体回路の微細化スピードが鈍化する中、生産能力の拡大投資が活発化している。... 最先端ではないが、回路線幅28ナノメートル(ナノは10億分の1)世代をメーンとしたマスク描画装置の...
【名古屋】フジミインコーポレーテッドは2018年から量産が本格化する回路線幅7ナノメートル(ナノは10億分の1)の半導体デバイス用に研磨材の量産体制を台湾と米国の工場で整えた。
顧客サービスをはじめ、部品の供給やメンテナンスなど幅広い対応が必要になる」 ―半導体の性能を左右する「回路線幅」の微細化は限界に近づいています。... 一方で半導体の生産効率の向上に...