- トップ
- 検索結果
記事検索結果
151件中、1ページ目 1〜20件を表示しています。 (検索にかかった時間：0.005秒)
そうした声を踏まえ、フッ化アルゴン(ArF)ドライでは生産性に加え、トータルコストの低減を重視する。フッ化クリプトン(KrF)とi線では300ミリメートルと200ミリメ...
前工程は微細化が進む一方、後工程ではチップレットなどの技術開発が進むため、市場は伸びていくとみる。... まずはフッ化アルゴン(ArF)露光装置の投入に期待したい。
ニコンは24年中に計3機種投入するが、さらに露光の波長別にフッ化アルゴン(ArF)ドライ、フッ化クリプトン(KrF)、i線の3機種の装置を投入。... 一方、新型のKr...
微細化と経済合理性を追求 半導体の高付加価値化(高機能化・低コスト化)は従前、シリコン基板上のトランジスタの微細化にあったが、2006年ごろ、その平面型構造は物理的限...
フッ化アルゴン(ArF)フォトレジスト用感光性ポリマーの設備を2025年10月、極端紫外線(EUV)フォトレジスト用同ポリマーの設備を25年9月に稼働する予定。... ...
住友化学は韓国ソウル近郊に開設する新たな研究開発センターで、新事業の創出を含めた活動を活発化する。... フォトレジスト分野でも、液浸ArF(フッ化アルゴン)レジストの新ラインや、先端...
同社は1997年に同材料事業を立ち上げ、直江津工場(新潟県上越市)で当時最先端のフッ化クリプトン(KrF)フォトレジストの生産を開始。その後もフォトマスクブランクス、フ...
2ナノメートルノード以細の半導体の量産には、従来主流だったフッ化アルゴン(ArF)エキシマレーザーを光源とする露光技術を超える高度な材料選択とプロセス制御の知識が必要になる。
リンテックは半導体回路パターンの微細化に対応できるEUV露光装置で、開発したペリクルの使用を想定。... EUV露光プロセスではこれまでのフッ化アルゴン(ArF)液浸など旧来型の露光装...
半導体業界の需要は2024年度には回復するとみており、材料の出荷量も増えると考えている」 ―半導体分野では、レジストポリマーは最先端の極端紫外線(EUV)やフッ化アル...
ネオンの国産化と半導体製造に不可欠な希ガスを増産し、サプライチェーン(供給網)強靱化に貢献する。 ... フッ化アルゴン(ArF)などEUVよりも旧世...
日本政府は、主に半導体製造に使うフッ化水素、フッ化ポリイミド、レジストの3品目の対韓輸出管理について、2019年7月に実施した厳格化措置を緩和することを決めた。... 特に半導体製造の洗浄工程などに使...
回路微細化をはじめ半導体の将来技術ロードマップの実現に向けて、三菱ケミカルグループの技術が貢献できる分野を幅広く探索する。... 30年度の売上高倍増に向け、既存事業では精密洗浄サービスの拠点拡充や、...
光源にフッ化アルゴン(ArF)を用いた装置がドライ・液浸ともに伸びている。... 個人的な考えとしては、生産の一層の自動化といった、高いレベルの生産技術を開発する狙いで25年以降に国内...
ArF(フッ化アルゴン)レジスト用モノマーは世界シェア首位でEUV(極端紫外線)レジストにもモノマーを供給。... 回路微細化による半導体性能向上の限界が見えてきた中で...
フッ化アルゴン(ArF)の液浸やドライを中心に新品が伸びる。... 半導体の高性能化で試験時間が長くなり、メモリーやロジック半導体向け試験装置の需要拡大が続いていることが背景にある。&...
一方、キヤノン、ニコンも独自路線で差別化を図り、多様化する半導体メーカーのニーズに応える。... 3次元化ニーズに対応した、フッ化アルゴン(ArF)液浸スキャナー「NSR―S636E」...
i線の半導体露光装置など非先端領域が伸びているが、新たに産業技術総合研究所(産総研)からフッ化アルゴン(ArF)液浸露光装置を受注するなど総じて堅調に推移しそうだ。&#...
