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記事検索結果
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住友化学は22日、最先端の半導体製造プロセスである極端紫外線(EUV)露光向けフォトレジストの開発・評価体制を強化すると発表した。... 人工知能(AI)や第5世代通信...
大阪工場(大阪市此花区)で回路パターンを転写する露光工程用レジスト(感光材)生産設備を拡充し、20年に本格稼働させる。... 大阪工場では、高機能な半導体の主要な製造プ...
レーザーテックは最先端の半導体加工技術である極端紫外線(EUV)露光用マスクパターンの欠陥を高感度に検出するEUV欠陥検査装置ACTIS「A150」を製品化した。 E...
直径200ミリメートルサイズの同クラスのi線露光装置は1995年に発売した装置以降、開発を止めていた。... 【設備補完強み】 極端紫外線(EUV)露光技術で微細な半...
【レーザーテック/アクティニックEUVパターンマスク欠陥検査装置 ACTIS「A150」】 最先端の半導体加工技術である極端紫外線(EUV)露光用マ...
極端紫外線(EUV)露光技術で微細な半導体を生産するメーカーの採用を見込む。 ... EUV露光技術は7ナノおよび5ナノメートル世代の半導体デバイスの量産で活用されて...
【横浜】レーザーテックは、半導体加工技術の極端紫外線(EUV)露光用マスクパターンの欠陥を高い感度で検出するEUV欠陥検査装置「ACTIS A150=写真」を製品化した...
半導体の回路パターンを転写する工程に使うレジストは数種類あり、今回の対象は極端紫外線(EUV)光源と電子線(EB)露光に対応したもの。EUV露光は10ナノメートル...
化学各社は最先端の半導体加工技術である極端紫外線(EUV)露光工程向け素材の供給体制を整備する。... EUV露光を使った半導体の生産も始まっており、EUV材料市場...
三井化学は最先端の半導体微細加工技術である極端紫外(EUV)露光工程向け部材のライセンス契約を蘭ASMLとの間で結んだ。ASMLの技術をもとに、三井化学はEUV露光フォトマスクの防塵カ...
半導体チップの回路パターンの微細化に必要なEUV露光技術の需要拡大に対応する。... 生産能力を増やすのは「EUV露光用フォトマスクブランクス=写真」と呼ばれる部材。... EUV露光技術は「...
電子事業は需要が見込める極端紫外線(EUV)露光用のフォトマスクブランクスの供給体制を拡充する。
レーザーテックはEUV露光の実現に不可欠なEUVマスクブランクス(原版)の欠陥検査/レビュー装置「ABICS E120」を製品化した。 同装置は世界...
極端紫外線(EUV)用フォトレジストの量産を始めた。 実際、EUV露光装置の生産台数は年数十台。ArF露光装置の年産200台と比べると需要差は大きそうだが「当面は並行...
現行の10ナノメートルチップと同じ「ロー・パワー・プラス(LPP)」プロセスで製造され、より微細な電子回路作製への適用が期待される極端紫外線(EUV)露光装置は使わない...
「ベルギーの研究機関IMECと設立した工場でEUV用フォトレジストの量産を始めた。... 特に評価されているのが、実際にEUV露光装置で品質を保証できる優位性。まずは従来のフッ化アルゴン(Ar...
JSRとベルギーの研究機関IMECは22日、光源に極端紫外線(EUV)を用いる露光装置向けリソグラフィー材料を生産する合弁会社を設立したと発表した。... IMECのEUV露光装置など...
極端紫外線(EUV)リソグラフィ向けフォトレジストの量産に備える。 ... ただ、光源の問題を抱えるEUV露光装置には実現を危ぶむ声も。
サプライヤーとしては北米プラス南米で考える必要があり、17―19年度の課題と捉えている」 ―半導体向けでは極端紫外線(EUV)による生産技術の前進を受け、露光材料の量...
JSRも極紫外線(EUV)露光材料の量産に向け動きだした。... 一方、JSRは年内をめどに、IMECと光源にEUVを用いる露光装置向けフォトレジストの合弁会社を設立する。最新のEUV...
