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記事検索結果
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その後もフォトマスクブランクス、フッ化アルゴン(ArF)レジスト、多層膜材料、極端紫外線(EUV)レジストなどを手がけた。
25年度には元の成長軌道に戻る」 ―極端紫外線(EUV)露光用フォトマスクブランクスの好調は継続しますか。
(中国の需要に対し)今後どのようなサプライチェーン(供給網)を組むかは検討中だ」 ―極端紫外線(EUV)露光用フォトマスクブランクスの...
AGCは27日、半導体向けの極端紫外線(EUV)露光用フォトマスクブランクスの生産能力について、2025年までに現在と比べ約30%増にすると発表した。... AGCでは17年に...
半導体部材、技術革新に挑む 全額出資子会社のAGCエレクトロニクス(福島県郡山市)が生産する半導体向けの極端紫外線(EUV)露光用フォトマスクブランク...
対象は、シリコンウエハー上への回路図の転写に用いられるフォトマスクブランクス。... 表面に半導体の回路原版を形成し、フォトマスクとして使われる。露光装置内でフォトマスクにEUVを反射させ、回路をウエ...
AGCは27日、半導体の生産工程で用いる消耗部材の極端紫外線(EUV)露光用フォトマスクブランクス(写真)の生産能力を現状の2倍程度に引き上げると発表した。... EU...
三井化学は蘭ASMLとの間でEUV露光用フォトマスクの防塵カバー「ペリクル」のライセンス契約を結んだ。... 【微細化ニーズ】 このほかにもAGCはEUV露光用のフォトマスク材料...
信越化学工業は光ファイバー用プリフォーム(前駆体)や半導体の製造工程で使うフォトマスクブランクスの設備投資を進めている。
AGCは28日、光源に波長13・5ナノメートル(ナノは10億分の1)の極端紫外線(EUV)を用いる露光装置向けのフォトマスク材の生産能力を、2020年に現在比約3倍に増...
半導体の回路パターン原版の材料であるフォトマスクブランクスを生産する既存工場はほぼフル稼働の状況だ。
【福井】信越化学工業は11日、武生工場(福井県越前市)にあるフォトマスクブランクスの工場棟を増設すると発表した。... フォトマスクブランクスは回路を半導体ウエハーに転写する際の原版で...
電子事業は需要が見込める極端紫外線(EUV)露光用のフォトマスクブランクスの供給体制を拡充する。
旭硝子グループのAGCエレクトロニクス(福島県郡山市)は5日、光源に極端紫外線(EUV)を用いる露光装置向けにフォトマスクブランクスを増産すると発表した。... フォト...
主な事業部の営業利益は、主力の塩ビ・化成品が同21・0%増の443億円、半導体シリコンが同5・8%増の395億円、半導体製造工程で使うフォトマスクブランクスの販売が増えた電子・機能材料...
欧米子会社が健闘した塩ビ・化成品は同24・8%増、化粧品や建材向けが多いシリコーンは同0・3%増、半導体シリコンが同14・7%増、HV用磁石や半導体製造工程で使うフォトマスクブ...
信越化学工業は18日、福井県越前市に半導体製造工程で使うフォトマスクブランクスの工場を新設すると発表した。... フォトマスクブランクスはシリコンウエハー上に回路を描画する際に回路の原版に使うフォトマ...