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記事検索結果
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同社は半導体フォトマスク欠陥検査装置の大手メーカーだが、特に最先端分野であるEUV(極端紫外線:Extreme Ultraviolet)用フォトマスク向けでは独占的なポ...
レーザーテックは、フラット・パネル・ディスプレー(FPD)フォトマスク欠陥検査装置の新機種を発売した。... 製造工程の欠陥検査、出荷前の品質検査に用いるハイエンド...
【横浜】レーザーテックは、10・5世代の大型フラット・パネル・ディスプレー(FPD)向けフォトマスク検査システムを開発した。... 開発したのはフォトマスク欠陥検査装置「CLIOS...
2019年をめどに、処理速度を向上した新型の「フォトマスク欠陥検査装置」の量産を始める。... 同社は主力のフォトマスク描画装置事業が、売上高の9割超を占める。... フォトマスク欠陥検査装置は、半導...
レーザーテックは1960年に創業し、76年には世界で初めてLSIフォトマスク欠陥検査装置を開発。主に半導体の製造プロセスに組み込まれる検査・測定装置で業績を伸ばしてきた。... 今後はフォトマスク分野...
【横浜】レーザーテックは従来機より検査速度を大幅に向上させた高速フォトマスク欠陥検査装置「MATRICS X700 HiTシリーズ=写真」を発売した。... フォトマスク製造工...
「超解像法を用いたフォトマスク欠陥検査装置」を開発した。半導体や液晶パネル用の原版を低価格、高速で検査できる。奨励賞は固液分離装置「レックス」を開発したシーエムエス(春日部市)が受賞。
【横浜】レーザーテックは今後実用化される第10世代(ガラス基板サイズ2850ミリ×3050ミリメートル)以降の液晶用フォトマスク欠陥検査装置「LI712=写真」を発売...