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記事検索結果
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【シンクロン/ALD法など高難度成膜技術】 シンクロン(横浜市西区)は、蒸着とスパッタの両方式の進化に技術力で貢献し、真空薄膜の可能性を広げてきた。現在は未...
原子層堆積(ALD)装置においてプロセスガスの変更による高温環境での使用にも対応可能にした。
【オプトラン/スマホ向けALD装置紹介】 オプトランはスマートフォンや発光ダイオード(LED)向けで採用が進む原子層堆積(ALD...
電子デバイス研究開発用、窒化・金属膜など対応 【京都】サムコは化合物半導体など幅広い電子デバイスでの成膜に対応した原子層堆積(ALD)装置を開発し...
オプトラン/スマホ向け原子層堆積装置 オプトランはスマートフォンやミニ・マイクロLED(発光ダイオード)向けの原子層堆積...
米FORGE NANO/粉体に利用できる原子層堆積技術 米FORGE NANO(コロラド州)は、粉体に利用可能な薄膜コーティングの原子層堆積...
オプトラン/プラ基板に光学多層成膜 オプトランはプラスチック基板への光学多層成膜が可能なプラズマ原子層堆積(ALD)装置「ALDER―800P=写真...
明電舎は、オゾンとエチレンガスによる原子層堆積(ALD)でフィルムに成膜したサンプルの大きさを、実用レベルに引き上げる。
明電舎は、極薄フィルムなどに原子レベルの膜を積層する原子層堆積(ALD)成膜技術を開発した(写真)。... 酸化アルミニウム単層膜で膜厚40ナノメートル、水蒸気透過性は...
半導体製造プロセスは、原子層レベルで成膜する原子層堆積(ALD)が主流になり、メモリーの多層化なども加速している。
粉体に成膜加工できる装置などを卓上型原子層堆積(ALD)装置「SAL1000シリーズ」として、2016年12月に発売した。 ALD装置は半導体用シリコンウエハーなどの...
菅製作所(北海道北斗市、菅育正社長、050・3734・0730)は、粉体に成膜加工できる装置などを卓上型原子層堆積(ALD)装置「SAL1000シリーズ」として発売した...
3次元積層した半導体の貫通電極を作成する際に利用する原子層堆積(ALD)をレンズにも応用した。... 同装置は真空層に二酸化ケイ素などの原料ガスとレンズ基板を入れ、プラズマを放射し成膜...
炭化ケイ素(SiC)や窒化ガリウム(GaN)を使ったパワー半導体のゲート酸化膜形成用に、原子層堆積(ALD)装置を開発し発売した。... ALD装置は1...